В мире полупроводниковой промышленности произошло событие, которое может кардинально изменить расстановку сил. Китайская компания Semiconductor Manufacturing International Corporation (SMIC) совершила прорыв, освоив производство 5-нм чипов, не используя передовую литографию в экстремальном ультрафиолетовом диапазоне (EUV). Эта новость, активно обсуждаемая экспертами и аналитиками, имеет не только техническое, но и геополитическое значение.
«Нет EUV – нет проблем»: Как SMIC обошла ограничения
Долгое время в отрасли считалось, что для производства чипов по технолгии 5 нм и ниже необходима EUV-литография, доступ к которой ограничила для Китая голландская компания ASML под давлением санкций США и их союзников. Большинство аналитиков полагали, что без EUV Китай не сможет продвинуться дальше 7-нм чипов.
Однако SMIC нашла решение, используя старое оборудование для глубокого ультрафиолета (DUV) и сложный процесс, известный как Self-Aligned Quadruple Patterning (SAQP). Этот метод предполагает многократное наложение слоев литографии и травления, что позволяет имитировать точность EUV. Хотя SAQP медленнее, дороже и более подвержен ошибкам, он позволяет производить вполне работоспособные 5-нм чипы.
Примером успешного применения этой технологии стал чип Kirin 9000S в смартфоне Huawei Mate 60, который, по некоторым данным, даже превзошел iPhone 15 и имеет поддержку спутниковых вызовов. Этот факт свидетельствует о реальной конкурентоспособности китайских технологий, несмотря на ограничения.
Китайская полупроводниковая промышленность: от копирования к 5-нм
Успехи SMIC подчеркивают стремительное развитие китайской полупроводниковой промышленности в целом. Кроме того, компании, как AMEC (производитель оборудования для травления) и NAURA (производитель оборудования для очистки пластин), теперь считаются серьезными конкурентами американских и японских компаний. Они не просто копируют существующие технологии, а разрабатывают собственные, создавая параллельную, независимую цепочку поставок полупроводников.
Вместе с тем, аналитики отмечают, что это уже не просто «подделки», а передовые фабрики, работающие на своих условиях и с использованием собственных технологических разработок.
Санкции как стимул: Huawei на подъеме
Возможности SMIC не ограничиваются производством чипов для смартфонов. Компания также производит ускорители искусственного интеллекта Ascend 920 для Huawei на 6-нм техпроцессе (возможно, с использованием процесса N+3, эквивалентного 6 нм). Этот чип обеспечивает высокую производительность, конкурирующую с предыдущим поколением чипов Huawei.
Интересно, что санкции США, ограничивающие поставки чипов Nvidia в Китай, стимулировали развитие бизнеса Huawei в области искусственного интеллекта. Многие китайские компании обращаются к отечественным альтернативам Huawei, которые не требуют экспортных лицензий и доступны без ограничений. Кроме того, политика, направленная на сдерживание Huawei, наоборот, способствует ее росту на внутреннем рынке искусственного интеллекта.
Планы на будущее: 3 нм с использованием DUV?
Успешное производство 5-нм чипов с использованием DUV – это демонстрация устойчивости и инновационного потенциала Китая. Это доказывает, что отсутствие доступа к EUV не остановило прогресс, а лишь перенаправило его. Хотя 5-нм чипы на основе DUV могут уступать по производительности чипам TSMC или Samsung, произведенным с использованием EUV, они вполне подходят для большинства современных задач, включая искусственный интеллект, 5G и потребительскую электронику.
Появляются слухи о том, что SMIC экспериментирует с еще более сложной технологией Self-Aligned Octuple Patterning (SAOP), чтобы продвинуть DUV до 3-нм техпроцесса. Это звучит невероятно, но в мире, где доступ к передовым технологиям ограничен, Китай делает ставку на изобретательность и настойчивость.
В случае успеха это может навсегда изменить представления о литографии, зависимости от определенного оборудования и геополитическом контроле над цепочками поставок чипов.
Закон Мура переписан: инновации в Шанхае
«Закон Мура не умер, он переехал в Шанхай», – отмечают аналитики. Вместо того, чтобы сдаваться, Китай прокладывает себе путь вперед, слой за слоем, пиксель за пикселем. Будущее чипов может определяться не тем, у кого лучшие инструменты, а тем, кто не сдается и продолжает разрабатывать и строить.
Правила меняются, и DUV может стать неожиданным фактором, влияющим на будущее полупроводниковой промышленности.
0